產品介紹
NEMST-2002IL series
連續式電漿清洗機(Strip Type)
連續式電漿清洗機(Strip Type)特色/設計說明
- 連續式電漿清洗模式
- 獨特氣流設計
- 高速清洗設計： 一般每循環時間約為28~33秒(含上料、電漿處理及下料)
- 低溫電漿清洗設計
- 腔體中可擺放基板數目：每循環可同時處理2~3條或5~6條
- 可選擇手動或自動操作模式
連續式電漿清洗機(Strip Type)性能特色
- 可單機處理，亦可與前、後站機台連線
- 適用於多種氣體，例如氬氣、氧氣、氫氣或混合氣，以達到最佳之清潔效果
- 適用於物理反應、化學反應、物理及化學反應同時產生之方法
- 極佳之清潔均勻性
- 氣體消耗量極少
連續式電漿清洗機(Strip Type)應用/解決方案
- 先進半導體封裝與組裝： IC 封裝、LED 封裝、CPO、SMT、Flip-Chip、TCP、COB、固晶/打線/封膠前基板清潔、其他
- 各式基板與導線架應用： PBGA, Window-BGA, Mini-BGA, Micro-BGA, QFN/MLP, TFBGA, LFBGA, VBGA (EBGA), Pin BGA, PCB, MMC, SD, Micro-SD 等各式基板，及 Cu/Ag-Plating/Fe L/F 導線架
- 通用電子元件清潔： 各電子或非電子元件之電漿清潔